美股動向|英特爾與ASML達成技術里程碑,成投資者重新關注股價催化劑
英特爾(US.INTC)與ASML(US.ASML)宣布達成半導體製造技術突破,刺激英特爾股價單日急升近10%,盤中成交額突破110億美元。兩家公司證實,英特爾代工部門已運用新一代高數值孔徑極紫外光刻(High-NA EUV)設備處理逾百萬片晶圓。
英特爾近期對企業級中央處理器實施全面10%加價,反映在基礎設施供應緊張環境下,客戶難以尋找替代供應商。此舉配合製造技術突破,顯示該公司正將多年資本開支轉化為商業定價能力。
在SPIE光罩技術會議上,兩家公司披露高數值孔徑EUV系統部署細節。新一代0.55數值孔徑鏡頭可單次曝光刻畫更精細電路線路,較傳統0.33數值孔徑系統減少多重曝光需求。英特爾更破解業界關注的曝光場域限制問題,透過專利光罩拼接技術實現大尺寸晶片生產。
英特爾確認將在Intel 18A製程的Panther Lake架構(市場命名為Core Ultra Series 3)中,採用高數值孔徑設備生產特定層次。目前相關生產層次的良率與性能已超越傳統設備,為2024年安裝業界首套商用系統後的實質進展。
公司第二季度每股盈利42美仙,較市場預期高出一倍,收入按年增25%至年化528.5億美元。管理層近期增持股份,行政總裁Patrick Gelsinger與財務總監David Zinsner均於股價回調時加碼買入。
行業分析指出,ASML目前市盈率達39倍,台積電(US.TSM)與三星等競爭對手亦將採用高數值孔徑設備。惟英特爾憑藉早兩年實務經驗,在代工業務建立技術優勢。市場預測機構將12個月平均目標價定於108美元,最高看200美元。
《經濟通通訊社12日專訊》














